Oksida Timah Indium

Indium Tin Oxide (ITO) adalah oksida konduktif transparan yang banyak digunakan di berbagai industri karena sifatnya yang unik. Ini adalah campuran indium oksida dan timah oksida dalam berbagai proporsi, biasanya dengan perbandingan 90:10 atau 95:5. ITO adalah bahan transparan, tidak berwarna dengan konduktivitas listrik yang tinggi dan transparan secara optik dalam rentang spektrum elektromagnetik yang terlihat.

Fitur:

Fitur utama ITO termasuk konduktivitas listriknya yang tinggi, transparansi optik, dan stabilitas mekanik dan kimia yang sangat baik. Ini adalah konduktor listrik yang sangat baik dan dapat digunakan untuk membuat lapisan konduktif transparan untuk berbagai aplikasi. ITO juga memiliki stabilitas termal yang sangat baik, sehingga cocok digunakan pada aplikasi suhu tinggi.

Nilai:

ITO tersedia dalam kelas yang berbeda tergantung pada aplikasinya. Nilai yang paling umum adalah ITO kemurnian tinggi, nano-ITO, dan ITO resistansi rendah. ITO dengan kemurnian tinggi digunakan untuk aplikasi yang membutuhkan transparansi tinggi, sedangkan nano-ITO digunakan untuk aplikasi yang membutuhkan konduktivitas tinggi. ITO dengan resistansi rendah digunakan untuk aplikasi yang memerlukan konduktivitas tinggi dan resistansi rendah.

Formulir:

ITO tersedia dalam berbagai bentuk, termasuk film tipis, target sputtering, dan bubuk. Film tipis adalah bentuk ITO yang paling umum digunakan dan digunakan untuk aplikasi seperti layar sentuh dan layar panel datar. Target sputtering digunakan untuk menghasilkan lapisan ITO pada kaca dan substrat lainnya. Serbuk ITO digunakan untuk aplikasi yang membutuhkan pembuatan pelapis khusus.

Spesifikasi Film Tipis ITO:

● Ketebalan: Ketebalan film tipis ITO bervariasi tergantung pada aplikasinya, namun biasanya berkisar dari beberapa nanometer hingga beberapa mikrometer.

● Resistansi Lembaran: Resistansi lembaran film tipis ITO biasanya dalam kisaran 10-500 ohm/persegi.

● Transmisi Optik: Film tipis ITO memiliki transparansi optik yang tinggi dalam rentang spektrum elektromagnetik yang terlihat, biasanya di atas 80 persen .

Spesifikasi Target Sputtering ITO:

● Kemurnian: Target sputtering ITO tersedia dalam tingkat kemurnian tinggi mulai dari kemurnian 99,9 persen hingga 99,999 persen.

● Bentuk dan Ukuran: Target sputtering ITO tersedia dalam berbagai bentuk dan ukuran, termasuk cakram, pelat persegi panjang, dan bentuk khusus.

● Kepadatan: Kepadatan target sputtering ITO biasanya berkisar antara 6,6 hingga 7,2 g/cm3.

Spesifikasi Bubuk ITO:

● Kemurnian: Serbuk ITO tersedia dalam tingkat kemurnian tinggi mulai dari kemurnian 99,9 persen hingga 99,999 persen.

● Ukuran Partikel: Serbuk ITO tersedia dalam berbagai ukuran partikel, biasanya mulai dari 0.5 hingga 5 mikron.

● Luas Permukaan Spesifik: Luas permukaan spesifik bubuk ITO biasanya berkisar antara 5 hingga 50 m2/g.

Metode Produksi:

ITO biasanya diproduksi dengan sputtering atau penguapan berkas elektron. Dalam sputtering, target yang terbuat dari indium dan timah dibombardir dengan ion, melepaskan atom yang mengendap ke substrat untuk membentuk film ITO. Dalam penguapan berkas elektron, target dipanaskan dan diuapkan dalam ruang hampa, dan endapan uap yang dihasilkan ke substrat untuk membentuk film ITO.

Aplikasi & Industri Terkait:

ITO digunakan dalam berbagai aplikasi, termasuk layar sentuh, layar panel datar, sel surya, dan perangkat elektronik. Ini juga digunakan dalam industri otomotif untuk jendela antifogging dan defrosting. Industri lain yang menggunakan ITO termasuk kedirgantaraan, militer, dan telekomunikasi.

Informasi Kesehatan & Keselamatan:

ITO umumnya aman untuk ditangani, tetapi penting untuk mengikuti tindakan pencegahan keselamatan yang tepat saat bekerja dengannya. Disarankan untuk memakai sarung tangan, jas lab, dan kacamata pengaman saat menangani ITO. Selain itu, ITO harus ditangani di area yang berventilasi baik untuk menghindari penghirupan debu.

Keuntungan kita:

Kami adalah produsen ITO terkemuka, dan produk kami memiliki kualitas terbaik. Kami menggunakan teknik produksi terkini untuk memastikan bahwa ITO kami konsisten dalam kualitas dan kemurnian. Selain itu, kami memiliki tim profesional berpengalaman yang berdedikasi untuk menyediakan layanan dan dukungan terbaik bagi pelanggan kami.

FAQ:

T: Berapa ketebalan film tipis ITO?

J: Ketebalan film tipis ITO bervariasi tergantung pada aplikasinya, tetapi biasanya berkisar dari beberapa nanometer hingga beberapa mikrometer.

T: Berapa indeks bias ITO?

J: Indeks bias ITO kira-kira 2.0 dalam rentang spektrum elektromagnetik yang terlihat.

T: Apakah pelapis ITO dapat dipola?

J: Ya, lapisan ITO dapat dipola menggunakan berbagai teknik seperti fotolitografi dan etsa.

T: Apa perbedaan antara sputtering dan penguapan berkas elektron?

A: Sputtering melibatkan membombardir target dengan ion, sementara penguapan berkas elektron melibatkan memanaskan target dan menguapkan material dalam ruang hampa. Kedua metode tersebut digunakan untuk mendepositkan film tipis ke substrat.

Tag populer: indium tin oxide, China, pemasok, beli, untuk dijual, buatan China